产业链——集成电路关键制造设备之一

CVD(化学气相沉积)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。其一般应用于集成电路制造、粉末合成、金属精致等。

CVD设备则是CVD应用的载体，是实现CVD的必要条件。

产业政策——对于CVD设备重视程度较高

从政策环境上来看，我国对于CVD设备较为重视，其主要体现在相关政策对于发展半导体设备的支持。如《“十三五”国家科技创新规划》中，薄膜设备(PVD设备、CVD设备等)被列为国家需要攻克的高端制造装备;《中国制造2025》中也提到，要形成集成电路关键制造设备的供货能力。

技术工艺——工艺不断发展变迁

近年来，CVD工艺不断发展，形成了较为固定的工艺流程，同时也根据不同的应用演化出了APCVD、LPCVD、PECVD等不同的CVD技术。一般来说，不同的CVD技术需要不同的CVD设备来承载，一定程度上也促进了CVD设备制造工艺的发展。

竞争格局——CR3达到70%

全球CVD设备市场的主要企业有应用材料、泛林半导体和TEL这三家，据Gartner披露，这三家企业合计占据了全球近70%的市场份额。其中，应用材料所占市场份额为30%;泛林半导体和TEL各自占据21%和19%。

细分格局——PECVD仍为主流

目前全球主流的CVD设备仍为PECVD、APCVD和LPCVD，据Gartner数据披露，这三类CVD设备合计市场份额约占总市场份额的70%;其中PECVD的市场份额约为35%。

国产化分析——相关技术仍需进步

我国CVD设备的国产化率近年来虽然在不断增长，但整体来看仍然较低。从长江储存2017年至2020年2月CVD设备累计招标采购份额来看，仅有3%的CVD设备来自于我国国产企业(沈阳荆拓)，由此可见，我国CVD设备竞争力与海外知名企业相比仍具有一定的差距。

目前我国CVD设备的主要生产企业包括北方华创和沈阳荆拓，这两家企业近年来发展势头较好，CVD设备相关技术也正在加紧研发中，未来或将成为我国CVD设备国产化率大幅提升的主要动力源。

以上数据来源于前瞻产业研究院《中国半导体产业战略规划和企业战略咨询报告》，同时前瞻产业研究院提供产业大数据、产业规划、产业申报、产业园区规划、产业招商引资等解决方案。

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