行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等

本文核心数据：安集科技和上海新安纳专利申请数量、专利市场价值、重点专利布局

全文统计口径说明：1)搜索关键词：CMP抛光液及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围：标题、摘要和权利说明;3)筛选条件：简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT进入指定国(指定期)，简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4)统计截至日期：2023年4月17日。5)若有特殊统计口径会在图表下方备注。

1、中国CMP抛光液技术竞争格局：安集科技和上海新安纳为中国主要企业之二

从企业的专利数量分布情况来看，安集科技和上海新安纳属于专利数量较多的企业。其中，安集科技的相关技术数量占比达到了35%左右，上海新安纳的相关技术数量占比为4%左右。

2、安集科技V.S.上海新安纳技术布局对比

(1)专利申请量及PCT申请量对比：安集科技遥遥领先于上海新安纳

不过，在CMP抛光液专利申请量方面，安集科技CMP抛光液专利申请总量是上海新安纳CMP抛光液专利申请量的6倍左右，分别为124项和20项。

从趋势上看，2004-2023年安集科技在CMP抛光液领域各年专利申请量整体比上海新安纳多。上海新安纳各年专利申请数量均为个位数，安集科技专利申请数量最高达到18项。

(2)专利市场价值对比：安集科技专利市场价值更高

安集科技CMP抛光液专利总价值高于上海新安纳，安集科技CMP抛光液专利总价值为787.18万美元，是上海新安纳的4倍多。

在专利价值分布方面，两者大多数CMP抛光液专利价值主要集中在3万-30万美元。

(3)专利申请地域对比：中国大陆为两者主要布局区域

目前，安集科技和上海新安纳的CMP抛光液专利申请区域主要集中在中国大陆，两者在中国大陆申请的CMP抛光液专利数量分别为111项和20项。中国台湾是安集科技CMP抛光液专利申请的第二大地区，专利申请数量为35项。

统计口径说明：按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计，并选择公开日最新的文本计算。

(4)专利类型对比：两者以发明专利为主

从专利类型分布情况来看，安集科技和上海新安纳CMP抛光液专利申请类型均为发明专利。

(5)专利技术构成对比：两者布局的第一大细分领域一致，但安集科技聚焦领域更为明显

目前，“C09G1抛光组合物(虫胶清漆入C09F11/00;洗涤剂入C11D)[2006.01]”为安集科技和上海新安纳的第一大CMP抛光液技术细分分布领域，两者在这一领域的专利申请量分别为121项和19项。两者其它重点细分CMP抛光液技术布局情况如下：

从CMP抛光液专利聚焦的领域看，目前安集科技的CMP抛光液专利聚焦领域较明显，其主要聚焦于化学机械、抛光液等。

(6)专利创新战略总结

整体来看，安集科技CMP抛光液技术在质量提升、专业化、多样化和国际化具有相对竞争优势，上海新安纳CMP抛光液技术则在数量增长、市场推动和合作性上具有相对竞争优势。

更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《中国半导体CMP材料（抛光液/垫）行业发展前景预测与投资战略规划分析报告》。

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